为功能层奠定基础通过预处理实现

表面处理通常用作预处理，以清洁、去除或活化顶层。预处理还用于形成待沉积层的优异界面。

这是必要的，因为基片表面通常并不清晰。还存在各种残留物，例如基片材料的氧化物和氢氧化物、水、吸附的气体以及先前工艺中残留的杂质。这些因素会妨碍可靠的机械或功能层沉积。

这里采用的是基于热或基于等离子体的工艺，在镀膜前立即在真空中去除表面残留的有机杂质或水分子。

根据材料或污染程度，表面镀膜会因温度影响而蒸发。或者它们实际上被离子轰击去除。

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