DREVA
PVD 硬质材料镀膜系统

凭借 DREVA,您可以获得灵活的 PVD 镀膜系统,用于通过阴极电弧蒸发沉积硬质材料层。

它还使您能够利用可延伸至 HiPIMS 的平面或可旋转磁控溅射源。蒸发器采用圆形平面(可控)设计,可作为电弧蒸发源。

空心阴极等离子体源可用于基底的活化、精细清洁和加热。其特点是放电电流大于 100 A,基底上的等离子体密度和 BIAS 电流也相应较高。

该系统具有全自动配方控制功能,也可以在手动模式下操作。它提供了许多用于沉积硬镀膜的标准配方。

如需了解更多详细信息,请查看宣传手册或直接联系我们。

采用阴极电弧蒸发技术,可生成具有较高沉积速率的各种硬镀膜

通过模块化源配置,针对特定应用调整高级镀膜

为客户量身定制可实现三倍基底旋转的基底托架,适用于 3D 零部件

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