HISS
水平式镀膜系统

HISS 是一种模块化真空镀膜系统,带有载体式基片传输装置。如果您正寻找采用成熟技术且高度灵活的中小产量生产设备,该系统是您的理想之选。

HISS 采用模块化设计,可根据您的需求进行配置。我们提供各种基本系统配置,诸如用于较小生产规模的单端版本。

这个系统具有高度工艺灵活性,因为工艺腔室可配置平面磁控管或可旋转磁控管。可根据要求提供离子预处理单元或加热和冷却单元。入口/出口、缓冲和运输腔室等所有辅助腔室,都可按照类似方式进行升级。

该系统采用灵活而动态的设计,具有标准化的部件,能够进行定制配置。这意味着该系统可适应新的工艺或要求。因此,客户能够根据自己产品的更新换代灵活采取行动。

如需了解更多详细信息,请查看宣传手册或直接联系我们。

依靠模块

化设计实现可扩展能力

与各种磁控管兼容,

具有高度的工艺灵活性

依靠灵活的配置

选项轻松满足您的要求

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28.02.2024 - 01.03.2024
H2 & FC EXPO Tokio 2024

Booth: W4/46
Tokyo, Big Sight

12.03.2024 - 13.03.2024
PVCELLTECH Frankfurt 2024

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22.04.2024 - 26.04.2024
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Hannover, Messe

25.04.2024 - 28.04.2024
China Glass 2024

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