通过高度灵活的过程控制系统

VA PROCOS2
控制化合物层的反应溅射

VA PROCOS 2 是一款模块化过程控制系统,专门设计用于在关键过渡模式下稳定反应溅射工艺。

它适用于通过光发射线、阴极电压、氧分压、其组合以及其他 PLC 信号进行过程表征。

此外,它还可用于稳定等离子体放电,从而稳定产品特性。这通过调节一种或多种反应气体的供应来实现。

自 1980 年以来,冯阿登纳一直是反应溅射工艺领域的领导者。此外,我们多年来一直提供过程控制系统 VA PROCOS,并不断对其进行优化。

我们当前的系统 VA PROCOS 2 控制复合层的反应磁控溅射,并在关键过渡区提供可靠的工作点稳定性。该系统还能可靠地控制用于反应性气体的一个或多个入口。

如需了解更多详细信息,请查看宣传手册或直接联系我们。

益处

可靠:经过行业验证的控制,

适用于所有常见膜层系统的反应溅射

可通过外部部件轻松配置,

适用于所有反应溅射应用

易于集成:

设计用于任何溅射设备

联系信息
28.02.2024 - 01.03.2024
H2 & FC EXPO Tokio 2024

Booth: W4/46
Tokyo, Big Sight

12.03.2024 - 13.03.2024
PVCELLTECH Frankfurt 2024

Frankfurt, nn

22.04.2024 - 26.04.2024
H2 FCell Hannovermesse 2024

Booth: nn
Hannover, Messe

25.04.2024 - 28.04.2024
China Glass 2024

Booth: Hall N1 / 126
Shanghai, New International Expo Centre

06.05.2024 - 09.05.2026
SVC Annual Conference 2024

Booth: nn
Chicago Hilton, Illinois, USA

VON ARDENNE Vacuum Equipment (Shanghai) Co., Ltd.

Plant 7, No 801 Qiangye Road, Songjiang District
201602 SHANGHAI
PR CHINA

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