通过自动临界点控制

VA TIPCOS
临界点的本地确定和执行

VA TIPCOS 使您能够自动确定临界点。它将工作点
设置为接近临界点,以确保反应溅射工艺中的最佳沉积速率。

此外,VA TIPCOS 可以监控单个磁控管或一组具有相同工艺参数和相同靶材料的相邻磁控管的反应工艺设置。

如需了解更多详细信息,请查看宣传手册或直接联系我们。

益处

通过将单位产

品的能耗降低来提高资源效率

产品性能和工艺稳定,

工艺良率高

支持生产

线的最大速度

如何
联系信息
28.02.2024 - 01.03.2024
H2 & FC EXPO Tokio 2024

Booth: W4/46
Tokyo, Big Sight

12.03.2024 - 13.03.2024
PVCELLTECH Frankfurt 2024

Frankfurt, nn

22.04.2024 - 26.04.2024
H2 FCell Hannovermesse 2024

Booth: nn
Hannover, Messe

25.04.2024 - 28.04.2024
China Glass 2024

Booth: Hall N1 / 126
Shanghai, New International Expo Centre

06.05.2024 - 09.05.2026
SVC Annual Conference 2024

Booth: nn
Chicago Hilton, Illinois, USA

VON ARDENNE Vacuum Equipment (Shanghai) Co., Ltd.

Plant 7, No 801 Qiangye Road, Songjiang District
201602 SHANGHAI
PR CHINA

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