XEA|nova® L
在线镀膜系统

如果您正寻找采用成熟的技术和设计且高产、灵活的生产系统,XEA|nova L 是您的理想之选。

该线内镀膜系统采用我们的专利镀膜技术,适用于大面积基材。该系统宽度大,可同时处理很多基片,因此特别适用于高生产率和低成本的应用。通过 XEA|nova L,您可对硅晶片或其他小型基片同时进行双面镀膜。此系统还适用于非常薄的基片。

凭借其模块化设计,XEA|Nova L 可配备旋转靶材磁控管,用于溅射沉积高性能 TCO 膜层或各种其它材料,诸如金属和金属氧化物。它还可适用于其他沉积技术。在真空状态下或在基片进入真空状态之前,还可通过清洗或刻蚀,在系统中对基片进行预处理。

如需了解更多详细信息,请查看宣传手册或直接联系我们。

较大的宽

度使生产力极高

灵活的模块化设计,

轻松适应新的工艺和要求

维护方便快捷,

停机时间短

支持
媒体
Perovskite PV: Status, Importance and Manufacturing Technologies

Some say that solar energy is the new oil. And perovskite solar cells appear to be the latest technology trend in the industry offering a huge…

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28.02.2024 - 01.03.2024
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Tokyo, Big Sight

12.03.2024 - 13.03.2024
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