剥离工艺
用于金属化的真空镀膜设备

每个电气系统都需要电气连接。后道应用中,通过将二维薄膜工艺与先前的光刻掩模相结合,创建这些电气连接。

可以说,掩模区域在镀膜后去除、剥离。这可以非常有效地创建小结构。先决条件是,合适的层特性和对相关区域的良好覆盖,以及对光致抗蚀剂没有损害。

对于这些工艺,我们为您提供用于金属化的真空镀膜系统。这些系统适用于不同金属的沉积溶液,以实现不同的应用,带有或不带有助粘剂,并经过温度处理。

您想要了解更多信息吗?点击下方内容或直接联系我们。

设备配置灵活,

轻松适应新的工艺和要求

设计紧凑,

节省占地空间

良好的剥离性能,

得益于最佳的膜层特性

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06.05.2024 - 09.05.2026
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Booth: nn
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VON ARDENNE Vacuum Equipment (Shanghai) Co., Ltd.

Plant 7, No 801 Qiangye Road, Songjiang District
201602 SHANGHAI
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